製品情報
TFXRD シリーズ（ TFXRD-200/300）
| 価格 | 価格は別途お問い合わせください。 |
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| メーカー名 | (株)リガク |
| 製品URL | https://rigaku.com/ja/products/semiconductor-metrology/tfxrd-series |
| 計測対象物質 | |
| アプリケーション | |
| 説明 | TFXRD シリーズは、大口径ウェーハ上の薄膜の測定を目的とした専用のXRDツールであり、薄膜の厚さ、結晶性、化合物材料の組成比、エピタキシャルウェーハの格子緩和などを測定します。 全ての薄膜XRDアプリケーションに適したXRDシステムで、200/300 mmウェーハまでのマッピングに対応したXY可動ステージを搭載しています。 当システムは、サンプルの損傷がなく状態が保たれることを保証し、追加の実験や分析を問題なく行うことができます。すべての研究開発ニーズに対して最も正確で信頼性の高い結果を提供します。 TFXRDシリーズの特徴 ・全ての薄膜XRDアプリケーションに最適な選択可能な光学機器を備えた最高精度のゴニオメータと、マッピングのためのXY可動ステージ ・効率的な計測速度 ・高分解能測定用の入射モノクロメータ ・大型ウェーハの完全なマッピング ・最大300 mmウェーハまで測定可能 |
