原子間力顕微鏡(AFM)Park NX-3DM

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メーカー名 パーク・システムズ・ジャパン(株)
製品URL https://www.parksystems.com/jp/products/in-line-metrology-afm/wafer-fabrications/nx-3dm
計測対象物質
アプリケーション
説明 ウエハ製造に不可欠な高分解能3Dメトロロジーのための全自動産業用AFMシステムPark NX-3DMは、オーバーハングプロファイル、高解像度側壁イメージング、および高精度での角度測定用に設計された完全自動AFMシステムです。Zヘッドのユニークな傾斜構造により、通常のAFMでは計測不可能な、アンダーカットおよびオーバーハング等の構造に対応できます。試料のカットやマウント、コーティングなどといったプレパレーションは不要で、側壁のラインプロファイル、粗さ、クリティカルアングルおよびCD計測のすべてが可能です。

・ヘッド傾斜角度0°, ±19°, ±38°
・XY、Z完全分離型スキャナ
・最大300㎜ウエハ対応