価格 | お問い合わせください。 |
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メーカー名 | (株)イアス |
製品URL | https://iasinc.jp |
計測対象物質 | ガス中,微量金属不純物,ICP-MS,微粒子,大気中,排ガス,タバコ,半導体,リアルタイムモニタリング, |
アプリケーション | 各種ガス中の微量金属不純物分析,大気中の金属微粒子の連続リアルタイムモニタリング |
説明 | ICP-MSやICP-OESの試料導入系として用いられ、各種ガス中に 含まれる金属微粒子を直接分析することができるシステムです。 各種ガスはGEDによりArガスに置換されますが、金属微粒子は置換 されずにArガス中の微粒子として、GEDからプラズマに導入され分析 されます。 ガスを直接ICPに導入することにより、前処理を用いる従来の方法に 比べて、約1,000倍高感度に金属成分の分析が可能です。 <GEDを用いた分析例> 環境:大気中の粒子状Hg、およびガス状Hgのリアルタイム オンライン分析 地質:大気環境下でのレーザーアブレーションを用いたサンプリング分析 半導体:一般ガス(N2, O2, CO2等)および特殊ガス (例:NH3, HCl, NF3, CH3F等)中の極微量金属の直接分析 クリーンルームの環境測定 自動車:排気ガス中およびブレーキパッドからの発塵等の分析 たばこ:燃焼煙中微量金属の直接分析 |