Web分析総覧/JAIMA

価格	価格はお問い合わせください。
メーカー名	株式会社日立ハイテク
製品URL	https://www.hitachi-hightech.com/jp/ja/products/microscopes/peripheral-equipment/im4000ii.html
計測対象物質	固体、材料、半導体、電池
アプリケーション	ミリング、加工、断面、平面
説明	日立イオンミリング装置のスタンダードモデルであるIM4000IIは、断面ミリングと平面ミリング（フラットミリング^®^）に対応しています。冷却温度調整機能や雰囲気遮断ホルダユニットなど、各種オプションにより、さまざまな試料の断面試料作製が可能です。 ◎特長 ●高ミリングレート IM4000IIは500 µm/h^1以上の断面ミリングレートを実現したイオンガンを搭載しています。硬質材料の断面試料作製に有効です。 ● ハイブリッドタイプのミリング装置　断面ミリング^2、フラットミリング^3対応。 1：加速電圧6 kV、マスクエッジからSiを100 µm突出させて1時間加工した際の最大深さ 2 : 割断や機械研磨では困難な柔らかい材料や複合材料の断面作製。 3 : 機械研磨試料の最終仕上げや試料表面の清浄化。フラットミリング®は、日本国内における株式会社日立ハイテクの登録商標です。