製品情報
日立イオンミリング装置 ArBlade® 5000
| 価格 | 価格はお問合せください。 |
|---|---|
| メーカー名 | 株式会社日立ハイテク |
| 製品URL | https://www.hitachi-hightech.com/jp/ja/products/microscopes/peripheral-equipment/arblade5000.html |
| 計測対象物質 | 固体 |
| アプリケーション | ミリング、加工、断面、平面 |
| 説明 | 日立イオンミリング装置の最上位機種。 クラス最速の断面ミリングレート を達成し、高スループット断面ミリングにより、電子顕微鏡用の断面試料作製がさらに身近になりました。 【特長】 ● 断面ミリングレート 1mm/h＊1到達！ イオンビームのさらなる高電流密度化を図った新開発のPLUSⅡイオンガンにより、ミリングレートが大幅に向上＊2しました。 ● 最大断面ミリング幅 8 mmまで拡張！ ワイドエリア断面ミリングホルダとの併用で加工幅を8mmまで拡張できます。 ● ハイブリッドタイプのミリング装置 断面ミリング＊3、フラットミリング＊4に対応。 スタンダードモデルIM4000IIと併せて、ホームページをご覧ください。 ＊1 : マスクエッジからSiを100μm突出させて1時間加工した際の最大の深さ。 ＊2 : 当社製品（IM4000PLUS : 2014年製）比で2倍のミリングレートを実現。 ＊3 : 割断や機械研磨では困難な柔らかい材料や複合材料の断面作製。 ＊4 : 機械研磨試料の最終仕上げや試料表面の清浄化。 ＊フラットミリング®は、日本国内における株式会社日立ハイテクの登録商標です。 |
